大国科技之超级复制

第234章 参观生产线(下)

    “当芯片加工制程进入到7nm的时候,如果只是单纯的缩小晶体管尺寸,漏电量会大到难以承受。所以我推断,在7nm工艺节点上,必须设计一种全新的晶体管结构,以降低量子隧穿效应,减少漏电。而现在主流的EDA软...

    正在手打中,客官请稍等片刻,内容更新后,需要重新刷新页面,才能获取最新更新!